シリコンウエハー（フォトレジストを塗布したもの）
ウエハー状にした単結晶のけい素に表面被膜を形成させた後フォトレジストを塗布したもの
貨物概要
製法：シリコンインゴット→切断→研磨→酸化膜形成→薄膜形成→フォトレジスト塗布→包装
分類理由
本品は、単結晶のけい素をウエハー状にカットし、表面に酸化被膜及び薄膜を形成させた後、フォトレジストを塗布した半導体デバイス製造用の物品として照会があったものである。 本品はウエハー状にカットしたけい素の結晶に表面に酸化被膜及び薄膜を形成させた後、フォトレジストを塗布したものであるため、関税率表第28類注１（ａ）、同注８のいずれにも該当しない。 本品は、同表第38.24項及び同表解説第38.24項の規定により、他の項に該当しない化学工業調製品として上記のとおり分類する。